화학설비의 건전성 모니터링에 관한 기술지침 1. 목적 이 지침은 화학설비의 건전성에 영향을 주는 인자들을 모니터링하여 화학설비의 건전성을 유지하는데 필요한 사항을 제시하는데 그 목적이 있다. 2.
적용범위 이 지침은 부식성 유체를 사용하거나 부식을 일으키는 환경에 있는 화학설비에서 건전성을 모니터링하는 경우에 적용한다. 3. 정의 (1) 이 지침에서 사용되는 용어의 정의는 다음과 같다.
(가) “건전성 모니터링 (Integrity operating window, IOW)”이라 함은 공정에서 미 리 정해진 시간동안 설정된 범위에서 벗어날 경우 장비의 무결성에 영향을 미 칠 수 있는 공정변수(매개변수)의 한계를 두어 모니터링하는 것을 말한다. (나) “임계하한 (Critical limit, Low Low)”라 함은 짧은 시간동안 급격하게 건전성에 영향을 미칠 수 있는 한계값의 최저 하한값을 말한다.
(다) “표준하한 (Standard limit, Low)”라 함은 운전에 민감하게 영향을...
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