안녕하세요. 반도체 공정의 기술이 1 ~ 2nm로 향해가고 있는 상황인데요.
이러한 상황에서 삼성과 TSMC는 EUV 노광장비에 대한 고심이 깊어지고 있습니다. 수 nm 단위의 공정을 위해서는 EUV가 필수적인 상황이지만 이러한 장비가 쌀리가 없는데요.
한대당 2500억원이 넘는 장비의 가격에 쉽게 도입을 하기도 어려운 상황이라고 하였습니다. 보다 작은 사이즈의 패턴을 위해서는 장비의 가격이 조 단위로 뛸 수도 있다고 하였는데요.
어떠한 기술이 들어갔길래 EUV 장비가 이렇게 비싼 것일까요? EUV 발광 기술 일반적인 광원 기술은 특정 파장의 발광을 갖는 반도체 소재를 여기시켜 빛을 형성하게 되는데요.
하지만 EUV의 경우에는 매우 높은 에너지에 따라서 일반적인 발광 기술로는 구현이 불가능합니다. 이를 구현하기 위해서 사용하는 방법은 액체 금속인 주석을 활용한 기술을 사용하게 되는데요.
미세한 주석 방울을 생성하여 레이저로 여기시키고 고온의 플라즈마를 형성하는 방법을 사용합니다. 고...
원문링크 : 1nm를 향해서, EUV 기술에 대해서
