화학설비의 부식 위험성평가에 관한 기술지침 1. 목적 이 지침은 화학설비에서 발생되는 손상메커니즘을 확인하고, 관리하여 설비의 건 전성을 유지하기 위한 부식 위험성평가에 필요한 사항을 제시하는데 그 목적이 있 다. 2.
적용범위 이 지침은 다음과 같은 경우에 부식성 유체를 사용하거나 부식을 일으키는 환경에 있는 화학설비에 대하여 적용한다. (1) 화학설비에 대한 부식 관리문서(Corrosion control document, CCD)를 작성할 경우 (2) 화학설비의 부식관리에 대한 우선순위를 결정하기 위한 자료를 개발할 경우 (3) 위험기반검사(Risk based inspection, RBI)와 같은 정량적 평가방법을 사용하지 않 고 화학설비의 부식 위험성을 확인하고자 할 경우 (4) 화학설비의 건전성 모니터링(Integrity operating window, IOW)을 수행할 경우 3. 정의 (1) 이 지침에서 사용되는 용어의 정의는 다음과 같다.
(가) “손상메커니즘 (Damag...
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